电沉积Co、Ni过程中的杂质离子的影响研究开题报告

 2021-08-14 18:43:06

1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

1.引言

随着现代科学的发展，传统电镀法制备的简单金属已经不能满足苛刻环境的要求，人们把目光逐渐转向电镀稀有贵金属，如co、ni、ti等。贵金属电镀层具有许多单金属镀层不具备的优异特性，例如：具有较高的硬度、耐磨性和致密性，较高的耐蚀性和耐高温特性，良好的磁性和易钎焊性以及美丽的外观等。然而高纯度贵金属的制备工艺仍然是目前阻碍稀有金属制备发展的一道屏障。因此，对高纯贵金属的研究和应用一直受到人们的重视。本课题就是针对高纯co、ni电沉积过程中杂质离子的问题，在查阅高纯金属的基本知识、性能指标，电沉积的知识、杂质离子对电沉积钴、镍过程的影响及研究手段等知识的基础上，进行钴、镍电镀层的制备及镀层性能分析技术研究，探讨不同杂质离子及不同浓度情况下对电沉积钴、镍过程的影响规律，为制备高纯度贵金属钴、镍镀层服务。

2.高纯钴、镍贵金属的应用

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2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

1、研究目的

（1）翻译英文文献一篇；

（2)研究电沉积钴过程中不同浓度的杂质离子cu2 、fe3 、pb2 、ni2 的影响；

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