限域转光膜生长过程中的前驱体浓度分布研究文献综述

文献综述

文 献 综 述摘要：综述了限域生长法在制备转光材料中的研究现状与进展。

首先概述了限域传质分离机制和模型，并进一步阐述限域空间对结晶过程的影响，最后对限域生长法制备转光材料的发展趋势和应用前景做出了展望。

关键字：限域空间、界面传质、微流体1 研究背景由于在照明、显示、医学成像、近红外激光、通信领域的应用，近几十年，稀土掺杂的发光材料越来越受到广泛关注及研究，转光薄膜的制备引起了很多研究者的关注。

然而现有的大多数方法存在粘附力弱、荧光强度不高、仪器昂贵等问题。

限域生长法是一种新型的转光薄膜的制备方法，转光薄膜的物理性质与其晶粒的尺寸和形状密切相关，建立限域空间是一个强化传质的过程，限域通道内的流态为层流态，有利于对局部浓度、化学反应和结晶进行较好的控制[1]。

限域空间尺寸通常在10-300微米之间，研究流体在微观和介观尺度上的行为又称为微流控技术，可以通过微型化显著提高合成和分析效率[2]，不仅在学术研究领域取得了显著的成果，而且在工业应用领域也取得了显著的成果。

因此限域生长法不仅对限域空间内晶体的生长和荧光传递的机制研究等具有重要的学术价值，更为转光材料的实际应用提供了载体，架起了从研究到应用的桥梁。

2 限域传质机制与模型 在限域条件下，由于膜相关的传质理论缺乏，对其传质出现的反常现象，普遍缺乏共性传质机制及调控方法的认识，严重制约了相关膜材料的设计开发，亟需建立基于限域传质机制的膜过程的定量描述方法[3]。

与此同时，成膜过程中所涉及的限域传质机制亦是不可忽视的关键问题之一，是对膜表面及内部结构建立清晰数学表达进而定量描述膜过程的重要前提[4]。