某晶片工厂冷热系统的研究与设计开题报告

 2021-08-08 10:44:01

1. 研究目的与意义

学会掌握热力和制冷系统中的计算方法,了解目前国内外企业在晶片生产公司的供热,制冷系统,空调系统,空气净化系统的使用情况,对未来的系统提出合理展望和自己的见解。

2. 国内外研究现状分析

室内空气净化技术设计介质过滤,吸附,化学催化,光催化,高电压(低温等离子,负离子,臭氧,静电)等多学科技术。

目前国内外先进技术有:

纤维过滤技术

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3. 研究的基本内容与计划

研究内容:

1无锡某晶片工厂,厂房建筑面积6000平方米,办公楼建筑面积4000平方米,有热水锅炉房,供回水温度95/70℃。

2要求:

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4. 研究创新点

可以考虑加入新的技术,如三联供系统,太阳能系统等。

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