1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）
文献综述
钯复合膜气压烧结致密化研究
1研究背景
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2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案
本课题要研究或解决的问题和拟采用的研究手段（途径）：
研究的问题：钯复合膜在使用过程中极易产生缺陷，主要为晶界相交处产生的闭孔和晶粒内部孤立的微孔，这些都会影响透氢纯度和使用寿命。理想的修补方式是在不增加膜厚的情况下对缺陷进行修补。本课题涉及一种钯膜的制备方法，其特征在于：采用化学镀在多孔基体表面沉积一层钯或钯合金膜，将制备的钯膜在一定正压的惰性气氛中烧结，促使微纳尺寸的钯晶粒重排，使处于晶界相交处的闭孔及晶粒内部孤立的微孔致密，再通过化学修补对剩余的缺陷进行填补，该法可制备出膜层致密均匀，使用寿命长，透氢性能高的钯膜。
本课题拟采用的研究手段：扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）、金相显微镜（metallography）、X射线晶体衍射（XRD）以及孔径分析仪。
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