碳掺杂对TiN镀层沉积过程的影响研究开题报告

 2021-08-14 06:08

1. 研究目的与意义(文献综述包含参考文献)

文献综述

引言

1.1磁控溅射技术的简介及发展

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2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

1.研究内容

1.通过改变ch4的流通量制备不同的ti(n,c)镀层;

2.对制备的ti(n,c)镀层进行力学性能检测(包括:显微硬度,韧性,摩擦磨损性能)

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