氧化钽薄膜MIM电容器制作与性能研究开题报告

1. 研究目的与意义

一、背景：

2. 研究内容和预期目标

一、研究内容：

随着集成电路的发展，传统的电容器已经不能满足射频电路的要求。金属-绝缘体-金属（mim）电容器件成为替代传统电容器的新型电容器件。本课题调研mim结构电容器的应用，氧化钽薄膜的具体应用和制备方法，利用溅射法制备出氧化钽薄膜mim结构电容器并进行相关性能测试。

二、预期目标：

3. 研究的方法与步骤

一、研究方法：

本实验采用离子束溅射法制备氧化钽薄膜，用rtp热处理炉进行退火，利用原子力显微镜，光学显微镜，电阻测试仪等设备对薄膜进行测试分析。

二、步骤：

4. 参考文献

1.半导体物理学，刘恩科等．西安交通大学出版社，1998年10月第1版。

2．半导体制造技术，michael quirk (作者), julian serda (作者),海潮和(合著者),徐秋霞(合著者),等(合著者),韩郑生(译者)电子工业出版社;第1版 ，2009年。

3.曲铭浩，胡跃辉，冯景华，谢耀江，王立富.高介电氧化钽薄膜制备与介电性能分析[j].陶瓷学报. 2009, 30(2):182-185。

5. 计划与进度安排

2022年12月16日 ：与老师见面，了解毕业论文总体情况，查阅文献资料任务；

1-2周 2022年2月20日-3月5日：查看毕业论文任务书，听老师介绍所选论文题目的状况和要求等。

2-3周 2022年2月27日-3月12日：完成开题报告，提交指导教师修改和审定。