硫化钼/Si异质结的接触特性研究开题报告

1. 研究目的与意义

mos2，又称为辉钼，与石墨容易剥离为单原子层的石墨烯相似，通过微机械剥离辉钼也容易成为单层 mos2膜。

单层mos2不仅具有与世界上公认的最薄、最坚硬、传导电子速度最快的石墨烯材料相似的网状结构，还具有相近的力学和电学性质。

但在能带上与石墨烯存在很大差别，单层mos2具有较大的直接带隙。

2. 研究内容和预期目标

研究内容：

通过查阅文献资料，全面地了解单层mos₂纳米薄膜的制备方法和电学特性，本文将采用化学气相沉积方法，在si衬底上生长超薄mos₂薄膜。应用x射线衍射分析制备的mos₂纳米薄膜的结构和成分，然后应用扫描电镜观察纳米薄膜的表面形貌，分析超薄mos₂薄膜的形貌和厚度对光吸收特性、发光特性和超薄mos₂薄膜/si界面接触特性的影响。

预期目标：

3. 研究的方法与步骤

研究方法：

1.首先，采用化学气相沉积法，在si衬底上生长超薄mos₂薄膜。

2.其次，应用x射线衍射分析制备的mos₂纳米薄膜的结构和成分。

4. 参考文献

[1] 周丽春，纳米二硫化钼的制备与表征.电子显微学报[j]，2004，12：20-30.

[2] 王泉山，兰新哲，周军，等．液相化学法合成纳米二硫化钼研究进展[j]. 广东化工， 2007,34(9): 32-35 .

[3] 马江虹，翟玉春,田彦文，等. 热分解法制备二硫化钼纳米粉末的研究[j]. 试验与研究，2004，03（04）：1004-0536.

5. 计划与进度安排

1.2022年3月2日-3月13日：听指导老师所选论题的状况和要求等；

2.2022年3月9日-3月20日：完成开题报告并交由指导老师修改和审定论文开题报告；

3.2022年3月23日-6月5日：按开题报告撰写论文；