离子束溅射法制备碲化铋基薄膜开题报告

1. 研究目的与意义

1.背景：热电制冷是一种半导体制冷技术，该技术新型、环保、无污染，工作原理是半导体的帕尔贴效应（电流通过两种不同的材料时在节点处产生吸热或放热）。国内常用材料是以碲化铋为基体的三元固溶体合金，其中p型是bi2te3—sb2te3，n型是bi2te3—bi2se3。 随着电子器件的小型化，热电制冷在微电子、光电子等高技术领域都具有广泛的应用前景。

2.目的： 学会离子束溅射法长薄膜，研究铋锑碲作为一种热电半导体的物理性能和实用价值。

3.意义：让学生懂得基础研究的大概流程，培养起严谨的科学态度，以便将来更好地生活。

2. 研究内容和预期目标

研究内容：

1.热电制冷薄膜的种类、制备方法和应用情况；

2.铋锑碲薄膜的离子束溅射制备方法；

3. 研究的方法与步骤

研究方法：调研法，实验法，测试法，分析法。

步骤：

1.调研研究背景；

4. 参考文献

[1]王凯,仲德晗,张扬,孙乃坤.bi2te3薄膜的制备及热电性能研究[j].沈阳理工大学学报,2019,38(04):85-89.

[2]邹彦娟,张小龙.se掺杂bi_2te_3电子结构第一性原理研究[j].萍乡学院学报,2019,36(03):34-37.

[3]张骐昊,徐磊磊,王连军,江莞.se掺杂量对n型bi_2te_(3-x)se_x微结构及热电性能的影响[j].无机材料学报,2014,29(11):1139-1144.

5. 计划与进度安排

第七学期 2022.11.27与老师见面，了解毕业论文总体情况，开始查阅文献资料任务；

第八学期：

1周 2022年2月24日-3月1日 接收毕业论文任务书，明确所选论文题目的状况和要求等；