1. 研究目的与意义
1、背景：磁性薄膜材料目前广泛应用于电子信息元器件的制作之中，软磁薄膜因其优良的物理性能和物理机制，被广泛应用于硬盘等磁记录设备中。软磁薄膜材料虽然具有优良的物理性能，但是铁氧体磁性材料处在随时间变化的磁场中，会产生能量损耗，但是磁头应具有较高的工作效率，所以自身的能量消耗要小，即损耗要小。而面电阻率高，电阻大，则损耗大，所以寻求合适的薄膜厚度从而尽可能降低损耗又保证磁记录效能成为人们要解决的问题。
2、目的：探究fen软磁薄膜厚度与面电阻率的关系，通过面电阻率和薄膜厚度的关系，寻求最佳的薄膜厚度，从而降低损耗。
2. 研究内容和预期目标
1、研究内容：采用磁控溅射在玻璃基片上沉积不同厚度的fen铁磁薄膜，基片厚度0.5 mm，面积5 mm*10mm，测试fen铁磁薄膜的物理特性。包括：
（1）不同厚度fen铁磁薄膜薄膜厚度、表面形貌。
（2）范德堡法进行铁磁薄膜面电阻率的物理计算，得出不同厚度fen薄膜的电阻率。
3. 研究的方法与步骤
1、研究方法：
（1）用单面抛光，厚度为0.5 mm的si作为实验基片，面积为5mm*10 mm，在si基片表面沉积不同厚度的fen薄膜。
（2）通过探针式表面轮廓仪，射频网络分析仪等表征手段测量薄膜的一系列性能，包括薄膜厚度、表面形貌、电阻率。
4. 参考文献
[1] andersson and a. anders,self-sputtering far above the runaway threshold[j]: an extraordinary metal-iongenerator, phys. rev. lett. 2009, 102: 045003.
[2]k.wangandd.m.mittleman simple wire picks upterahertz waves [j],nature2004,432:376.
[3] a. anders, j. andersson, and a.ehiasarian, high power impulse magnetron sputtering[j]: current-voltage-timecharacteristics indicate the onset of sustained self-sputtering journal ofapplied physics 2007,102: 113303.
5. 计划与进度安排
1. 2022年2月24日-3月1日，毕业论文工作动员。
2. 2022年2月24日-3月1日，指导教师完成在系统中毕业论文任务书的下发，系主任审核任务书。指导教师向学生讲授所选论题的状况和要求等。
3. 2022年2月24日-3月8日，学生提交开题报告等材料（开题报告、外文翻译等），指导教师审核开题报告等材料。
