全文总字数：2431字
1. 研究目的与意义（文献综述）
低温等离子体工艺对微电子工业和高新技术的发展有着重要的作用，射频容性耦合等离子体（ccp）是最早应用到半导体刻蚀工艺的等离子体源，具有结构简单、成本低廉等优点。
对ccp 研究是通过调节装置的可调参数（包括驱动电源参数、装置尺寸、气体性质以及外磁场或电介质）来优化等离子体的放电参数，得到理想的等离子体效果，为等离子体工艺技术的改进提供依据。
在过去，对ccp 的研究主要围绕电源参数、装置尺寸和气体性质这三类参数对等离子体性质的影响；之后又在ccp中提出了几何不对称和电不对称的问题，得到电非对称的 ccp 源能独立控制到达极板的离子通量和离子轰击能量，从而满足集成电路制造过程中对线宽、选择性以及控制损害的要求；还有由于在电负性气体放电中产生的负离子可以影响鞘层结构和内部电场，对电负性气体中ccp做了研究。
2. 研究的基本内容与方案
采用二维显式静电pic算法模型作为粒子推动模型；采用mcc模型处理电子和离子反应。
研究在电负性气体中对等离子体催化放电的影响；改变侧向电极的电压，看是否会对流注传播方向产生影响，是否可以按照需求沿着特定的路径进行传播。
通过改变背景气体的比例，不同比例的氮气和氧气混合气体对于等离子体催化放电的影响。
3. 研究计划与安排
第1－3周：查阅相关文献资料，明确研究内容，了解研究的物理背景和相关软件。
确定方案，完成开题报告。
第4－8周：掌握编程基本工具，熟悉相关程序模块的测试算例。
4. 参考文献（不低于12篇）
[1] s.-l. yang, y. zhang, h.-y. wang, j.-w. cui, and w. jiang, plasma processes and polymers 1700087 (2017).
[2] s. yang, l. chang, y. zhang, and w. jiang, plasma sources sci. technol. 27, 035008 (2018).
[3] s. yang, m. e. innocenti, y. zhang, l. yi, and w. jiang, journal of vacuum science technology a: vacuum, surfaces, and films 35, 061311 (2017).
