1. 研究目的与意义（文献综述）
集成光学是于上世纪六十年代末在微波、激光、半导体、薄膜光学和集成电路的理论和技术的基础上提出的一门新兴学科。由于它在光通信和光信息处理方面存在着巨大的潜力和经济效益，首先引起了美国、日本以及西欧等国家的重视和关注，而后，包括中国在内的许多国家也相继开展了集成光学方面的研究工作。经过几十年的发展，目前集成光学已经建立起比较完整和成熟的理论体系、实验方法和工艺手段，特别是近十多年来，这门学科取得了惊人的发展，无论在波导的制作技术还是器件性能技术指标都有了前所未有的突破。其研究成果被广泛的应用于光通信和信息处理等方面。集成光学的迅速发展给人们展示出现代光电子学的美好前景，同时也对其它学科诸如半导体技术材料科学和物理学起到了很大的推动作用。
集成光学器件主要应用于光计算机技术、光信息处理技术和光纤通信技术领域，并且存在着巨大的潜力。现代集成光学技术已经可以把光源、光波导、电子器件、电光器件和接收器等集中在同一片子上，制成高速、低功率的各种运算器件和各种开关逻辑器件。在集成光学器件中，信号以光速传播，有时运算操作是随着光的传播同时进行的，而集成光学器件可以与光纤耦合，输入输出都很方便。
介质光波导是在光波导器件和集成光路中用来限制和传导光波的基本元件。在各种集成光电子器件和半导体激光器件的研究中，都要涉及到复折射率光波导。如集成光电子器件和半导体激光器件的研究中的耦合器、偏振器、调制器和分束器等都是由金属包层介质波导组成。在半导体激光器侧向模式分析和半导体激光放大器的模式分析、含增益或吸收光栅的分布反馈激光器等许多情况中也都有要涉及到有损耗层或者增益层的复折射率材料表面的类波导膜。为此,了解和掌握复折射率材料表面类波导膜的光学特性对集成光学器件的研究、测量和制作都具有重要的实际意义。
2. 研究的基本内容与方案
基本内容、目标
首先利用真空镀膜法在k9玻璃表面镀制适当厚度的具有复折射率的膜，形成样品gm。然后利用旋涂法在gm上制作纯的和含茶成份的pmma薄膜，制成类导波膜；之后对其光学特性进行研究，借助matlab进行理论分析。
目标：对制成的pmma薄膜进行光学特性研究，并且借助matlab进行理论分析。
3. 研究计划与安排
第1－3周：查阅相关文献资料，明确研究内容，了解研究所需原理以及器材。确定方案，完成开题报告。
第4－13周：利用真空镀膜法在k9玻璃表面镀制适当厚度的具有复折射率的膜，形成样品gm。再利用旋涂法在gm上制作纯的和含茶成份的pmma薄膜，制成类导波膜；之后对其光学特性进行研究，借助matlab进行理论分析；
第5－10周：进行外文文献的翻译；
4. 参考文献（12篇以上）
[1]m.bacha,a.belghoraf.evaluationofopticalpropagationandradiationinopticalwaveguideusinganumericalmethod[j].chinoptlett,2014,7:16-19.
[2]梁铨廷.物理光学(第3版)[m]北京：电子工业出版社，2008.4.
[3]曹庄琪.导波光学[m]北京：高等教育出版社，1988.10.
