离子束溅射制备氧化物薄膜开题报告

1. 研究目的与意义

一、研究背景：

1853年grove就观察到溅射现象，到1902年，goldstein才指出产生溅射现象的原因是由于阴极受到电离气体中的离子的轰击而引起的，并且完成了第一个离子束溅射实验。并且在不断发展的构成中逐渐成熟并得到了巨大的发展，至2004年离子束溅射沉积氧化物薄膜在dwom超窄带干涉滤光器件的生产中已然成熟。

由于离子束溅射沉积制备薄膜的特点，相较于其他的薄膜制备方式，具有：附着力强、速度快、材料及环境控制等自由度大、易于形成并获得高质量薄膜等特点，备受欢迎。

2. 研究内容和预期目标

一、主要研究内容：

本课题主要研究在可控变量条件下利用离子束溅射沉积制备薄膜的各项参数，以及改进的方式方法，形成较好的薄膜制备的流程及薄膜制备条件。

1、通过调研离子束溅射设备的使用方法和应用情况；

3. 研究的方法与步骤

一、研究方法：

主要采用控制变量法，控制每次实验时反应条件只改变一项，以此达到对每次薄膜制备的可控性，以及对实验数据的具体分析。

二、步骤

4. 参考文献

1、曲铭浩，胡跃辉，冯景华，谢耀江，王立富.高介电氧化钽薄膜制备与介电性能分析[j].陶瓷学报. 2009, 30(2):182-185.

2、张幸福，魏爱香，侯通贤.氧化钽薄膜的结构、成份和介电性能研究[j].人工晶体学报.2008, 37(3):684-688.

3、王超，庄大明，张弓，吴敏生.五氧化二钽薄膜的i—v特性[j].材料研究学报.2003(3):332-336.

5. 计划与进度安排

第七学期 2022.11.26与导师见面，了解毕业论文总体情况，以及查阅文献资料任务；

第八学期：

1周 2022年2月25日-3月3日下达毕业论文任务书，再次向学生讲授所选论文题目的状况和要求等；