1. 研究目的与意义
一：背景：
tin薄膜的研究工作早在20世纪60年代已开始进行，但因材料和器件制备上的困难，使研究工作一度转入低潮。后来随着薄膜制备技术的提高，国内外对tin薄膜的研究工作又开始活跃起来，制备方法也多样化了，目前已取得很大进展。由于氮化钦膜的硬度高、红硬性好，井兼有良好的韧性，耐磨性好，能成倍提高刀一具的寿命，所以常被涂覆在硬质合金刀具和高速钢 ij具上除耐磨涂层外，氮化认膜还大量用作表壳、表带和其他日用品的仿金镀层，具耐磨性远超过镀金层和其他仿金合金镀层.此外，氮化钦膜还可用作耐腐蚀镀层、微电子器件的扩散障碍层、光学反射层等。日前在工业生产中硬质合金刀具卜的氮化钦镀层仍用化学气相沉积方法生产，而在高速钢刀具上则有离子镀、阴极电弧、磁控溅射等多种方法生产。
二.目的:
2. 研究内容和预期目标
一.研究内容：
调研氮化钛薄膜在机械、电子、光学等领域的应用背景，查阅资料了解氮化钛薄膜具体应用和制备方法，并利用溅射法制备出氮化钛薄膜，改变制备条件如制备压强、温度、溅射功率、气流比等参数，以及退火等制备过程，通过相关表征仪器测试得出光学、电学性能等数据，并通过比较总结出实验条件对薄膜性能的具体影响。
二、预期目标：
3. 研究的方法与步骤
一.研究方法：
磁控溅射制备tin薄膜技术主要有直流磁控溅射和射频磁控溅射(使用陶瓷tin靶材)两种，最近又出现了非平衡磁控溅射和反应溅射。其中反应溅射方法因其独特的优点最早和最多地使用在tin薄膜制备上。另外非平衡磁控溅射方法也是一种国内外常用的溅射方法，磁控溅射制备tin薄膜具有溅射率高、基片温升低、膜基结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点。同时它也有一些缺点，例如它的沉积速率较底，效率较差，对降低沉积成本不利，因此磁控溅射方法仅应用于光学、微电子学等对tin涂层要求较高的领域。
二.步骤：
4. 参考文献
1.半导体物理学，刘恩科等．西安交通大学出版社，1998年10月第1版。
2．半导体制造技术，michael quirk (作者), julian serdar(作者),海潮和(合著者),徐秋霞(合著者),等(合著者),韩郑生(译者)电子工业出版社;第1版 ，2009年。
3.朱宇清，陈希明，李福龙，李晓伟，杨保和．磁控溅射沉积tin薄膜工艺优化[j]．沈阳大学学报(自然科学版)．2014, 26(4):272-276
5. 计划与进度安排
1-2周2022年2月20日-3月5日 与老师见面，了解所选论文题目的状况和要求等；
2-3周2022年2月27日-3月12日 完成开题报告，指导教师修改和审定学生论文开题报告；
