1. 研究目的与意义
背景：
磁性薄膜材料，英文magnetic thin film material，厚度在1微米以下的强磁性（铁磁性和亚铁磁性）材料。简称磁膜材料。使用时需附于弱磁性材料的基片上，是由铁、钴、镍等一类的过渡族元素及其合金、化合物等直接或间接产生磁性的物质来制备的薄膜。磁性薄膜与普通薄膜相比, 其具有许多优异的性能，比如高磁导率、巨磁电阻效应、巨霍尔效应等。因为其特殊而优异的性能，磁性薄膜已经成为当前电子信息材料领域不可或缺的材料。磁性薄膜在电子学领域有广泛的应用，如信息储存、隐身技术、磁传感器、微波通信、电子对抗、电磁兼容等领域。制备方法主要有真空蒸发法、电沉积法、溅射法等。而采用磁控溅射沉积的铁磁薄膜更具有很好的软磁性能和高频特性，薄膜产量较高，易于产业化。
目的：
2. 研究内容和预期目标
研究内容
研究内容主要包括氮化铁薄膜样品制备、薄膜性能测试和物理分析。
1. 薄膜沉积中，氮气和氩气流量比为1:x（sccm），调节氩气x参量，从1~20sccm之间变化，实验点取5~8个；
3. 研究的方法与步骤
研究方法：
1. 薄膜沉积中，氮气和氩气流量比为1:x（sccm），调节氩气x参量，从1~20sccm之间变化，实验点取5~8个；
2. 测试一系列薄膜性能指标，如薄膜厚度，表面结构，磁导率等；
4. 参考文献
1. b.c. webb, m.e. re, chr.v. jahnes, m.a. russak, j. appl.magnetic and structural characterization of sputtered fen multilayer films. phys.rotating media recording system with adaptive track density. 1991，69：5611.
2. d.s. gardner, g. schrom, p. hazucha, f. paillet, t. karnik, sh. borkar,hallstein, t. dambrauskas, ch. hill, c. linde, w. worwag, r. baresel, sriram muthukumar, j. appl. phys.improved high frequency response and quality factor of on-chip ferromagnetic thin film inductors by laminating and patterning co-zr-ta-b films， 2008，103：07e927.
3. c. back, d. pescia, m. buess, vortex dynamics, in: b. hillebrands, a. thiaville (eds.), spin dynamics in confined magnetic structures iii, springer, berlin.2006, p:137.
5. 计划与进度安排
第七学期
14—16周：学生网上选题，指导老师与学生双向选定后，学生根据课题收集资料；
第八学期
