1. 研究目的与意义
背景：
磁性薄膜是由铁、钴、镍等一类的过渡族元素及其合金、化合物等直接或间接产生磁性的物质来制备的薄膜。磁性薄膜与普通薄膜相比, 其具有许多优异的性能，比如高磁导率、巨磁电阻效应、巨霍尔效应等。因为其特殊而优异的性能，磁性薄膜已经成为当前电子信息材料领域不可或缺的材料。磁性薄膜在电子学领域有广泛的应用，如信息储存、隐身技术、磁传感器、微波通信、电子对抗、电磁兼容等领域。而采用磁控溅射沉积的铁磁薄膜更具有很好的软磁性能和高频特性，薄膜产量较高，易于产业化。
目的：
2. 研究内容和预期目标
研究内容
通过本科所学知识及查阅文献资料，全面地了解氮化铁薄膜的制备、薄膜性能测试和物理机理。本实验提出采用射频磁控溅射方法制备氮化铁薄膜。我们重点研究在基片温度一定和氮气和氩气流量比固定时，调控薄膜沉积时间，变化5-6个时间点，测试一系列薄膜性能指标，如薄膜厚度，磁导率等等，分析不同薄膜厚度对铁磁薄膜磁性能的影响。
预期目标
3. 研究的方法与步骤
研究方法：
1. 薄膜沉积中，氮气和氩气流量比和基片温度固定不变，调控薄膜沉积时间5~30分钟内，变化5-6个时间点；
2. 测试一系列薄膜性能指标，如薄膜厚度，磁导率，表面形貌等；
4. 参考文献
1. j. andersson and a. anders,self-sputtering far above the runaway threshold: an extraordinary metal-iongenerator, phys. rev. lett. 2009, 102: 045003.
2. j. t. gudmundsson, n. brenning, d. lundin,and u. helmersson, high power impulse magnetron sputtering discharge,journal ofvacuum science and technology a 2012, 30: 030801.
3. a. anders, j. andersson, and a.ehiasarian, high power impulse magnetron sputtering: current-voltage-timecharacteristics indicate the onset of sustained self-sputtering journal ofapplied physics 2007, 102: 113303.
5. 计划与进度安排
第七学期
14—16周：学生网上选题，指导老师与学生双向选定后，学生根据课题收集资料；
第八学期
